目前搞光刻機(jī)的國家和企業(yè)不少，荷蘭的ASML當(dāng)然是一枝獨(dú)秀，基本壟斷了目前高端光刻機(jī)的市場，基本上40nm以下的制程，廠商都愿意采用ASML的光刻機(jī)。日本的佳能、尼康在光刻機(jī)產(chǎn)品上也算做得不錯(cuò)，尼康甚至能生產(chǎn)號(hào)稱最大支持7nm制程的EUV光刻機(jī)。當(dāng)然國內(nèi)的廠商至少在我們認(rèn)知中也在努力，比如上海微電也在研發(fā)支持28nm制程的光刻機(jī)。

不過荷蘭ASML的地位顯然短期內(nèi)是無法動(dòng)搖的。ASML正抓緊研發(fā)下一代高數(shù)值孔徑極紫外光（high-NA EUV）光刻機(jī)。之前AMSL透露，其存量EUV客戶均訂購了新一代裝置，也就是之前購買ASML EUV光刻機(jī)的芯片制造廠商，都已經(jīng)在ASML下一代光刻機(jī)上下了訂單，除了我們已知的Intel和臺(tái)積電，包括三星、海力士、美光等廠商也都已經(jīng)購買了ASML下一代光刻機(jī)，只是按照順序等ASML生產(chǎn)裝配后發(fā)貨。

雖然因?yàn)榻?jīng)濟(jì)形勢(shì)導(dǎo)致整個(gè)半導(dǎo)體的行情不是太好，但是這些有能力生產(chǎn)芯片的廠商還是知道，至少在光刻機(jī)上的錢不能省，購買ASML下一代高端光刻機(jī)，這是讓自己保持技術(shù)優(yōu)勢(shì)的前提。目前普通EUV能生產(chǎn)3nm工藝的芯片，未來想要進(jìn)一步突破物理墻，就要靠ASML的下一代高端光刻機(jī)了。

這其中第一臺(tái)high-NA-EUV光刻機(jī)是被Intel所購買，據(jù)悉會(huì)在2024年部署，2025年開始量產(chǎn)芯片，所以Intel也對(duì)自己的等同于1.8nm的芯片工藝信心滿滿。而臺(tái)積電將于2024年引進(jìn)下一代光刻機(jī)，估計(jì)也會(huì)在2nm及以下的工藝制程上。三星集團(tuán)則表示要購買10臺(tái)下一代光刻機(jī)，預(yù)備未來擴(kuò)充記憶體、晶圓代工的產(chǎn)能可以擴(kuò)大。

根據(jù)一些信息透露，目前UEV光刻機(jī)的單臺(tái)售價(jià)已經(jīng)接近2億美元，而下一代光刻機(jī)的單臺(tái)售價(jià)更是達(dá)到了4億美元，折合人民幣大概27億元。很顯然在未來很長一段時(shí)間中，ASML將繼續(xù)在光刻機(jī)領(lǐng)域維持自己的優(yōu)勢(shì)。盡管歐洲、日本一些廠商都表示要研發(fā)自己的2nm芯片工藝，但大概率也是購買ASML的設(shè)備才行。

至于大家關(guān)心的國產(chǎn)光刻機(jī)，可生產(chǎn)90nm制程的光刻機(jī)其實(shí)很早就已經(jīng)研發(fā)出來，并號(hào)稱通過了驗(yàn)收，但實(shí)際上我們之前了解的情況是只有一家廠商購買了這種光刻機(jī)，而且也不是用于生產(chǎn)，更像是面子工程。這種光刻機(jī)據(jù)悉是倒推ASML之前老技術(shù)的光刻機(jī)而來，說是國產(chǎn)但是大多數(shù)零部件也是從國外采購，而且由于技術(shù)原因，無論是良率和產(chǎn)能，都可以忽略不計(jì)，完全無法商用。

之前也有消息說上海微電自己研發(fā)的可支持28nm制程的光刻機(jī)，已經(jīng)算是成功，這給了不少國人信心。但遺憾的是，據(jù)悉這種國產(chǎn)28nm的光刻機(jī)甚至無法通過檢驗(yàn)，目前不說商用，能否達(dá)到正常使用都還是兩說。有小道消息表示，華為挖走了上海微電不少工程師，這個(gè)說法肯定是沒有官方回應(yīng)的。但可以肯定的是，目前所謂的國產(chǎn)光刻機(jī)，是無法銷售給芯片制造廠商使用的，國內(nèi)的芯片代工廠商未來只能繼續(xù)依賴海外的設(shè)備。

盡管我們一直表示要發(fā)展國內(nèi)的芯片產(chǎn)業(yè)，但說實(shí)話這部分差距的確非常大，技術(shù)能力和制造能力和海外整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈相比，絕非一朝一夕可趕上，只能慢慢努力，而且還要考慮海外在技術(shù)發(fā)展上的速度，甚至連先進(jìn)一些的國產(chǎn)芯片都還得靠海外的EDA設(shè)計(jì)軟件才能實(shí)現(xiàn)。最后我們只能表示拋開幻想腳踏實(shí)地吧，憑借喊口號(hào)是沒法彌補(bǔ)巨大的差距的！