三星正探索下一代半導(dǎo)體浸入式散熱方案
由 分享
時間:
瀏覽:0
10 月 26 日消息,三星電子近日出席在釜山舉行的國際電子封裝研討會(ISMP 2023),該公司 DS 部門負(fù)責(zé)人 Hwang Yu-cheol 發(fā)表主題演講,介紹了“浸入式散熱”解決方案。
小編注:安卓手機明年將繼續(xù)出貨 4nm 工藝芯片,蘋果 iPhone 15 Pro 系列已經(jīng)采用 3nm 公司,隨著半導(dǎo)體小型化達(dá)到其物理極限,人們對提高芯片性能的封裝技術(shù)的興趣與日俱增。
如何管控半導(dǎo)體的發(fā)熱已經(jīng)成為擺在芯片廠商和手機廠商面前的難題,三星提出的浸入式散熱相比較現(xiàn)有的空氣散熱,可以顯著降低散熱功耗。
三星坦言目前這種解決方案初期投入成本非常高,它具有高度穩(wěn)定性和半永久性,因此在很多方面都有優(yōu)勢。
本站部分文章來自網(wǎng)絡(luò)或用戶投稿。涉及到的言論觀點不代表本站立場。閱讀前請查看【免責(zé)聲明】發(fā)布者:,如若本篇文章侵犯了原著者的合法權(quán)益,可聯(lián)系我們進(jìn)行處理。本文鏈接:http://www.gdyuanyu.cn/tougao/107511.html